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偏壓電源(Bias power supply )是真空電弧離子鍍及其它真空物理氣相沉積設備中一個重要組件,在鍍膜工藝流程中為工件提供負(或正)偏壓。...
偏壓電源(Bias power supply )是真空電弧離子鍍及其它真空物理氣相沉積設備中一個重要組件,在鍍膜工藝流程中為工件提供負(或正)偏壓。
作用
1)提高真空等離子體內帶電粒子的能量,轟擊清洗所鍍工件表面,使工件表面經受高能粒子撞擊后得到嶄新的表層,從而提高后續沉積膜層的結合力。
2)提高并控制真空等離子體內帶電粒子的能量,提高膜層與工件基體結合力。
3)靠不同的電壓輸出極性或方式改變沉積規則,調整膜層顏色。
4)克服偏壓電源工作于真空等離子體環境中,由高電壓引起的陰極弧光放電燒傷工件。
偏壓電源工作于二級高頻變換模式,單極脈沖方式輸出。電源的電壓調整通過改變高頻變換電路的電源電壓來實現,調壓電路具有1%的穩率。高頻變換電路產生10-90%脈沖電壓。由于電源的輸出電壓與脈沖寬度獨立調整,在滿足工藝所需電壓同時,通過改變脈沖寬度來控工件溫升。電源適用于各類工具鍍膜及裝飾鍍膜 。
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